Wykłady z Aparatury Procesowej w semestrze letnim 2016/2017 odbywać się będą w wtorki w godzinach od 08.00 do 09.30.


 

TEMATYKA WYKŁADÓW

 


LITERATURA PODSTAWOWA

  1. Warych J.: Aparatura chemiczna i procesowa, Of. Wyd. Pol. Warsz. Warszawa 2004.
  2. Błasiński H., Młodziński B.: Aparatura przemysłu chemicznego, WNT Warszawa 1971.
  3. Couper J., Penney W., Fair J., Walas S.M., Chemical engineering equipment – selection and design. 3rd edition, Elsevier 2012. (dostęp elektroniczny przez BGPP)
  4. Lewicki P. (pr.zbiorowa), Inżynieria procesowa i aparatura przemysłu spożywczego, WNT Warszawa 2006.

 

LITERATURA DODATKOWA

  1. Koch R., Noworyta A., Procesy mechaniczne w inżynierii chemicznej, WNT Warszawa 1998.
  2. Koch R., Aparatura chemiczna, PWN Warszawa 1972.
  3. Kozulin N., Sokołow W., Szapiro A., Maszyny przemysłu chemicznego, WNT, Warszawa 1981.
  4. Płanowski A., Ramm W., Kagan S., Procesy i aparaty w technologii chemicznej, WNT Warszawa 1974.
  5. Visual Encyclopedia of Chemical Engineering Equipment, Multimedia Education Laboratory, University of Michigan.
  6. Green D.W, Perry R. H, Perry’s Chemical EngineersHandbook, McGraw-Hill, 2008.
  7. Wesołowski P., Borowski J., Szaferski W., Aparatura chemiczna i procesowa.Cz.2.Mieszalniki i separatory, Wydawnictwo PP, Poznań 2005.
  8. Wesołowski P., Borowski J., Aparatura chemiczna i procesowa. Cz.1. Wymienniki ciepła i masy, Wydawnictwo PP, Poznań 2002

Dodaj komentarz